Nachtrag: EUV mittels freier Elektronen

Es adelt Canon m.E., dass sie bei Nanoimprint als einzige niemals aufgegeben haben. Einschätzen wie gut das funktioniert kann ich allerdings nicht.
Gerade heute habe ich einen Beitrag gelesen, dass neben einem japanischen Institut und ASML auch die Tsinghua Universität an EUV mittels freier Elektronen arbeitet. Dieses Verfahren wäre dann eine Mischung aus dem heutigen EUV- Verfahren und dem für Chip- Prototypen verwendeten Elektronenstrahlverfahren. Der zur Belichtung notwendige EUV- Laserstrahl würde dann nicht mehr im Stepper selber erzeugt werden, sondern in einer eigenen, 200 Meter langen Anlage mit Beschleunigen und Undulatoren über oder unter der Halle mit den Steppern. Die Undulatoren schärfen und manipulieren dabei den Laserstrahl.
Das wäre dann für die übernächste Generation EUV ab Ende 2020iger Jahre...