Für Zusammensetzungen wie Molybdändisulfid (MoS2), Wolframdiselenid (WSe2) und MoS2(1-x)Se2x wurden Schichtdicken von wenigen bis zu 15.000 Schichten im Wafermaßstab erreicht.
Die genannten Elemente sind alle größer als Silizium. 15000 Schichten sind ungefähr 5µm.
Sicher ein elektrisch interessanter Halbleiter, die genannten Strukturgrößen sind aber unrealistisch. Selbst bei 2D-Halbleiter benötigt man einen Isolator für die 3. Dimension sonst macht einem die Physik einen Strich durch die Rechnung: https://de.wikipedia.org/wiki/Tunneleffekt