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  • Fritz (5)

585 Beiträge seit 27.09.2020

Re: Chinesischer Durchbruch auch bei EUA-Lithografie

Eldoran schrieb am 07.09.2023 19:24:

....es war an sich auch nicht der einzige Ansatz für kleinere Strukturbreiten... Wenn die am Markt verfügbar sein werden, sollten genauere technische Vergleiche möglich werden, bis dahin ist leider alles nur Spekulation (und Vorurteile)

Es war zu lesen: Der zentrale Konkurrent von ASML hat das Handtuch geworfen.
Ein ZEISS Sprecher meinte, sie hätten circa 10 Jahre Vorsprung. Es sei allerdings auch
schwer über einen solch langen Zeitraum Prognosen zu erstellen.

Aus physikalischer Sicht dürfte die angewandte Technik ausgereizt sein.

MfG Bernays

Das Posting wurde vom Benutzer editiert (07.09.2023 22:06).

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