Erst mal den angedeuteten Prototypen bauen lassen, dann schauen wir mal. Eine Dekade könnten wir noch darauf warten, die Japaner kochen doch auch nur mit Wasser.
Das Potential der neuen Technologie scheint aber doch klar:
- weniger Spiegel verbessern die Lichtausbeute
Das klingt dürr für das geforderte Investment, doch die Ausbeute, also der Lichtmenge die auf dem Wafer ankommt, war ein wesentlicher Grund für die Verzögerung bei EUV (2018 statt 2010 für Samsungs 1. Maschine).
Die Rechnung war etwa so, 30 kW für jeden Laser, resultiert in 100W EUV-Licht, resultiert in 1W auf dem Wafer. Allein diese Größenordnung von Verlust und Verzögerung rechtfertigt die weitere Forschungsarbeit - wenn das künftig zu vermeiden wäre! So jedenfalls stellt sich das Oist das vor, denke ich.
Andererseits haben Halbleiterguru, aw und Ich! schon wertvolle Erläuterungen erfragt und im Forum gegeben. Doch gegeben dass die Lichtquelle und der Strahlenweg mit den Spiegeln ein relativ teurer Teil eines EUV-Belichters ist ist das ganze schon vielversprechend. Du könntest Licht effizienter nutzen, die Maschine evtl etwas günstiger betreiben, und dieselbe Lichtquelle länger verwenden. Vorher kommt halt der lange, teure testweise Umbau und die Rüttelstrecke.
Mal sehen ob da jemals was draus wird.