Halbleiterguru schrieb am 09.08.24 11:29:
1. Das ist ein theoretischer Vorschlag!!!
2. Die Auflösung und das beleuchtete Feld ist stark reduziert. 24nm, 20mmx26mm, bei NA0.2. Zum Vergleich EUV ist 13nm, 26mmx33mm, da NA0.33.
3. Man könnte auch 16nm erreichen, bei NA0.3, braucht dann aber gekrümmte Maskenoberflächen und kann nur noch 10mm(x 26mm)Das System wäre eher eine Konkurrenz zu immersion ArF Ansätzen.
Keine Ahnung was TP hier treibt von Revolution zu sprechen.
Ja, Telepolis erinnert mich gelegentlich auch an die politische Variante von P.M.