foobar schrieb am 09.08.2024 14:55:
Theoretisch könnte man auch das Original, das durch die Optik abgebildet wird, vorverarbeiten, so daß auch bei einer schlechten Optik ein scharfes Bild herauskommt
Das wird schon gemacht. Einerseits bekommt die Maske zusätzlich Strukturen (OPC), die gar nicht so auf dem Wafer erscheinen (,SRAFs) oder man hat zusätzliche Dummiestruktur (PRAFs) um mehr gleichmässige Abstände zwischen den Strukturen zu haben.
https://en.m.wikipedia.org/wiki/Optical_proximity_correction
Außerdem wird teilweise extrem an der Form der Beleuchtung gedreht, neben einfachen Dipol- oder Quadropolen, gibt es da ganz wilde Muster (Source Mask Optimisation), das wird dann mit dem OPC zusammen optimiert.
Es gab auch den Ansatz, das einzelne offene Bereiche der Maske, die Phase des Licht schieben und die daneben nicht.
https://en.m.wikipedia.org/wiki/Phase-shift_mask