Der bislang einzige chinesische Hersteller von Lithographie-Belichtungsmaschinen, die Firma SMEE aus Shanghai, kann 90 nm Strukturbreite. Letzten Herbst hat dann auch noch Huawei seinen Hut in den Ring geworfen, es sieht so aus als würden die ASMLs EUV Technologie versuchen zu kopieren. Wie lange die dafür noch brauchen werden kann kein Mensch im Westen wohl wirklich wissen.